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    KDS晶振,石英晶體振蕩器,DSO211AR晶振,日本KDS晶振

  • 編號:31998160
  • 頻率:0.4~80.0MHZ
  • 尺寸:2.0*1.6詳細瀏覽PDF文檔
  • RoHS
  • RoHS2
具有最適合于GPS用途的高穩(wěn)定的頻率溫度特性。 為對應低電源電壓的產(chǎn)品。(DC+1.8V ± 0.1V to +2.9V ± 0.1V 対応可能)高度:最高0.8 mm、體積:0.0022 cm3、重量:0.008 g,超小型、輕型。低消耗電流、表面貼片...

     日本KDS晶振,DSO211AR進口晶振,藍牙耳機晶振,頻率范圍0.4MHz~80.0MHz,小型SMD封裝2.0*1.6*0.63mm,低電壓1.8V~3.3V,頻率溫度穩(wěn)定值±20 ×10-6,石英晶體振蕩器在設計時就與各款型號IC匹配等相關技術,使用IC與晶片設計匹配技術:是高頻振蕩器研發(fā)及生產(chǎn)過程必須要解決的技術難題.

   大真空提供有遠見的解決方案通過開發(fā)和生產(chǎn)各種水晶設備,滿足多元化的市場需求.大真空也開發(fā)了一套系統(tǒng),可以使來自不同部門的專家跨職能協(xié)作和合作,所以我們可以提供高質(zhì)量的石英設備及時和有效的方式.我們公司的可靠性是由我們的員工能力迅速做出反應,個別員工產(chǎn)生的協(xié)同效應.KDS品牌創(chuàng)建和支持的人.信任不斷由個別員工通過日常任務會導致更大的依賴我們的客戶.







        石英材料中的二氧化硅分子(SiO2) 在正常狀態(tài)下, 其電偶極是互相平衡的電中性. 在(圖二左)的二氧化硅是以二維空間的簡化圖形. 當我們在硅原子上方及氧原子下方分別給予正電場及負電場時, 空間系統(tǒng)為了維持電位平衡, 兩個氧原子會相互排斥, 在氧原子下方形成一個感應正電場區(qū)域, 同時在硅原子上方產(chǎn)生感應負電場區(qū)域. 相反的情況, 當我們在硅原子上方及氧原子下方分別給予負電場及正電場時, 兩個氧原子會相互靠近, 氧原子下方產(chǎn)生感應負電場,硅原子上方產(chǎn)生感應正電場. (圖二). 然而, 氧原子的水平位置變化時, 鄰近的另一個氧原子會相對的產(chǎn)生排斥或吸引的力量, 迫使氧原子回到原來的空間位置. 因此, 電場的力量與原子之間的力量會相互牽動, 電場的改變與水平方向的形變是形成交互作用狀態(tài). 這個交互作用會形成一個在石英材料耗能最小的振動狀態(tài), 祇要由電場持續(xù)給與能量, 石英材料就會與電場之間維持一個共振的頻率. 這個壓電效應下氧原子的振幅與電場強度及電場對二氧化硅的向量角度有相對應的關系.在實際的應用上, 電場是由鍍在石英芯片上的金屬電極產(chǎn)生, 電場與二氧化硅的向量角度則是由石英晶棒的切割角度來決定.


     KDS晶體科技股份有限公司,依據(jù)‘ISO 14001環(huán)境/OHSAS-18001安衛(wèi)管理系統(tǒng)’要求制定本‘環(huán)境/安衛(wèi)手冊’,以界定本公司環(huán)境/安衛(wèi)管理系統(tǒng)之范圍,包括任何排除之細節(jié)及調(diào)整,并指引環(huán)境/安衛(wèi)管理系統(tǒng)與各書面、辦法書之對應關系,包含在環(huán)境/安衛(wèi)管理系統(tǒng)內(nèi)之流程順序及交互作用的描述.本公司環(huán)境/安衛(wèi)管理系統(tǒng)之適用范圍包含公司所有的活動、產(chǎn)品及服務. KDS晶體科技股份有限公司藉由環(huán)境/安衛(wèi)管理系統(tǒng)的推動執(zhí)行,以整合內(nèi)部資源,奠定經(jīng)營管理的基礎.藉執(zhí)行環(huán)境考量面/安衛(wèi)危害鑒別作業(yè),環(huán)境/安衛(wèi)管理方案和內(nèi)部稽核為手段,合理化推動環(huán)境/安衛(wèi)管理,落實環(huán)境/安衛(wèi)系統(tǒng)有效實施.并不斷透過教育訓練灌輸員工環(huán)境/安衛(wèi)觀念及意識,藉由改善公司制程以達到污染預防、工業(yè)減廢、安全與衛(wèi)生、符合法規(guī)要求使企業(yè)永續(xù)發(fā)展減少環(huán)境/安衛(wèi)負擔,并滿足客戶需求,獲得客戶的信賴而努力. 

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